【ソウル聯合ニュース】韓国半導体大手SKハイニックスの中国現地法人の元従業員が中国企業に転職するために、SKの半導体製造に関する機密情報を流出させたとして、産業技術流出防止および保護に関する法律違反の罪で逮捕、起訴された。ソウル中央地検が7日、明らかにした。 検察によると、元従業員は2022年に機密情報を無断で持ち出し、不正に使用した。 元従業員は中国通信機器大手、華為技術（ファーウェイ）の子会社の海思半導体（ハイシリコン）から転職の打診を受け、写真を撮るなどして情報を流出させたとみられている。 元従業員が撮影した機密資料の写真は約1万1000枚に上り、一部は機密情報であることを隠すため、「社外秘」のスタンプや会社のロゴなどが削除されていたことが分かった。 またこれらの機密情報を引用して作成した履歴書を中国企業2社に提出していたという。 検察は「企業と国の経済を脅かす技術流出犯罪に厳正対応する」と話した。